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開爾文探針提供了一種無損、無觸點的方法來測量各種材料組合的功函數(shù)差。這些探針可具有多種設計，包括不同的頂端形狀、長度和半徑。為了確定最佳設計，同時最大限度地減少測試。開爾文探針可以確定材料的接觸電勢差(或功函數(shù)差)。這種探針基于時變電容器，使用兩個電極工作：由功函數(shù)已知的材料制成的可移動探針。由功函數(shù)未知的材料制成的固定樣品。當這些電極電連接時，費米能級達到平衡。功函數(shù)較低的材料中的電子流入功函數(shù)較高的材料中，這種流動產(chǎn)生接觸電勢差，為電容器充電。此外，可移動電極中的振動改變...

磁控濺射鍍膜機是一種普適鍍膜機，用于各種單層膜、多層膜和摻雜膜系?？慑兏鞣N硬質(zhì)膜、金屬膜、合金、化合物、半導體、陶瓷膜、介質(zhì)復合膜和其他化學反應膜，亦可鍍鐵磁材料。主要用于實驗室制備有機光電器件的金屬電極及介電層，以及制備用于生長納米材料的催化劑薄膜層。磁控濺射鍍膜機主要優(yōu)勢：1、實用性：1.1、設備集成度高，結構緊湊，占地面積小，可以放置于實驗桌面上即可；1.2、通過更換設備上下法蘭可以實現(xiàn)磁控與蒸發(fā)功能的轉(zhuǎn)換，實現(xiàn)一機多用；2、方便性：2.1、設備需要拆卸的部分均采用即插...

脈沖激光沉積也被稱為脈沖激光燒蝕，是一種利用激光對物體進行轟擊，然后將轟擊出來的物質(zhì)沉淀在不同的襯底上，得到沉淀或者薄膜的一種手段。發(fā)展歷程：脈沖激光沉積的發(fā)展與探究，處處受制。事實上，當時的激光科技還未成熟，可以得到的激光種類有限；輸出的激光既不穩(wěn)定，重復頻率亦太低，使任何實際的膜生成過程均不能付諸實行。因此，PLD在薄膜制作的發(fā)展比其它技術落后。以分子束外延（MBE）為例，制造出來的薄膜質(zhì)素就優(yōu)良得多。往后十年，由于激光科技的急速發(fā)展，提升了PLD的競爭能力。與早前的紅寶...

深能級瞬態(tài)譜儀是半導體領域研究和檢測半導體雜質(zhì)、缺陷深能級、界面態(tài)等的重要技術手段。根據(jù)半導體P-N結、金－半接觸結構肖特基結的瞬態(tài)電容（△C～t）技術和深能級瞬態(tài)譜（DLTS）的發(fā)射率窗技術測量出的深能級瞬態(tài)譜，是一種具有*檢測靈敏度(檢測靈敏度通常為半導體材料中摻雜濟濃度的萬分之一)的實驗方法，能檢測半導體中微量雜質(zhì)、缺陷的深能級及界面態(tài)。通過對樣品的溫度掃描，可以給出表征半導體禁帶范圍內(nèi)的雜質(zhì)、缺陷深能級及界面態(tài)隨溫度（即能量）分布的DLTS譜。集成多種全自動的測量模式...

磁控濺射的工作原理是指電子在電場E的作用下，在飛向基片過程中與氬原子發(fā)生碰撞，使其電離產(chǎn)生出Ar正離子和新的電子；新電子飛向基片，Ar離子在電場作用下加速飛向陰極靶，并以高能量轟擊靶表面，使靶材發(fā)生濺射。在濺射粒子中，中性的靶原子或分子沉積在基片上形成薄膜，而產(chǎn)生的二次電子會受到電場和磁場作用，產(chǎn)生E（電場）×B（磁場）所指的方向漂移，簡稱E×B漂移，其運動軌跡近似于一條擺線。若為環(huán)形磁場，則電子就以近似擺線形式在靶表面做圓周運動，它們的運動路徑不僅很長，而且被束縛在靠近靶表...

勻膠機其工作原理是高速旋轉(zhuǎn)基片,利用離心力使滴在基片上的膠液均勻的涂在基片上,厚度視不同膠液和基片間的粘滯系數(shù)而不同,也和旋轉(zhuǎn)速度及時間有關。勻膠機是在高速旋轉(zhuǎn)的基片上，滴注各類膠液，利用離心力使滴在基片上的膠液均勻地涂覆在基片上的設備，膜的厚度取決于勻膠機的轉(zhuǎn)速和溶膠的黏度。從其原理來說，可以看出選購勻膠機需要注意的幾個細節(jié)：1、旋轉(zhuǎn)速度轉(zhuǎn)速的快慢和控制精度直接關系到旋涂層的厚度控制和膜層均勻性。如果標示的轉(zhuǎn)速和電機的實際轉(zhuǎn)速誤差很大，對于要求精密涂覆的科研人員來說是無法獲...