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半自動光刻機(jī)在高精度微加工中的實際應(yīng)用
半自動光刻機(jī)在高精度微加工中的實際應(yīng)用 2025-04-15

隨著微電子技術(shù)和納米技術(shù)的快速發(fā)展,光刻技術(shù)成為了半導(dǎo)體制造和高精度微加工中的核心技術(shù)。尤其是半自動光刻機(jī),憑借其較高的性價比和較為靈活的操作模式,已經(jīng)在許多高精度微加工領(lǐng)域中得到了廣泛應(yīng)用。一、半自動光刻機(jī)的工作原理光刻技術(shù)通過利用光敏材料(光刻膠)在紫外光或激光照射下發(fā)生化學(xué)...

  • 這樣清洗狹縫擠出式涂布機(jī),你可知? 2022-07-18

    在使用狹縫擠出式涂布機(jī)完畢工作中后與塑料水塔,泵一起清洗。要*去除乙酸乙酯的膠是非常艱難的。小量的強力膠殘存在擦抹輥上,會壅閉。那么,涂布機(jī)應(yīng)該如何清洗呢?清洗狹縫擠出式涂布機(jī)后應(yīng)留意:1、洗衣粉sp-751酸溶液,實際操縱時務(wù)必戴上膠皮手套,護(hù)目鏡,防護(hù)口罩等防護(hù)裝備。2、乙酸乙酯5-11的使用,如沒有臟東西的修復(fù)仍然能夠在流程6-8使用。3、洗滌液對金屬材料有侵蝕。假設(shè)涂層被有涂勝過1小時的洗滌液,它將有可能離開鉻涂層輥,這務(wù)必在1小時內(nèi)舉行。狹縫擠出式涂布機(jī)實際操縱流程...

  • 磁控濺射的基本概念和基本原理 2022-07-18

    一、磁控濺射概述磁控濺射是物理氣相沉積的一種。一般的濺射法可被用于制備金屬、半導(dǎo)體、絕緣體等多材料,且具有設(shè)備簡單、易于控制、鍍膜面積大和附著力強等優(yōu)點,而上世紀(jì)70年代發(fā)展起來的磁控濺射法更是實現(xiàn)了高速、低溫、低損傷。因為是在低氣壓下進(jìn)行高速濺射,必須有效地提高氣體的離化率。磁控濺射通過在靶陰極表面引入磁場,利用磁場對帶電粒子的約束來提高等離子體密度以增加濺射率。二、基本概念濺射:用荷能粒子轟擊固體表面時,固體表面原子受到荷能粒子碰撞,有可能獲得足夠的能量和動量,并從表面逸...

  • 脈沖激光沉積制備高性能薄膜的應(yīng)用熱點 2022-07-11

    近年來,由于脈沖激光技術(shù)的發(fā)展日趨成熟,脈沖激光沉積(PLD)在薄膜制備領(lǐng)域的應(yīng)用已經(jīng)成為研究的熱點。由于脈沖激光具有高能量峰值以及短脈寬,燒蝕靶材時會濺射出大量復(fù)雜的微納粒子形成等離子體,等離子體在真空或背景氣體中經(jīng)過定向膨脹后到達(dá)基底,在基底上形成產(chǎn)物,因此利用PLD技術(shù)可以在基底上沉積特定成分和微納結(jié)構(gòu)的薄膜。脈沖激光沉積技術(shù)能夠制備類型廣泛且性能優(yōu)異的功能薄膜,因此目前被廣泛地應(yīng)用到光電、新能源、生物、超導(dǎo)、電子封裝、催化、傳感等領(lǐng)域。1、光電領(lǐng)域近年來,PLD制備二...

  • 磁控濺射鍍膜機(jī)常見故障有哪些?一定要注意! 2022-07-04

    當(dāng)磁控濺射鍍膜機(jī)出現(xiàn)故障后應(yīng)先要向使用者了解故障的現(xiàn)象,之后要親自開機(jī)觀察故障,這樣才能更準(zhǔn)確、更快、更合理地排除故障。排除故障應(yīng)先檢測低真空是否正常(機(jī)械泵、羅茨泵、管道、下室、蒸發(fā)室),低真空正常后再開主泵,主泵正常后檢測下室真空中是否正常,下室真空正常再開高閥進(jìn)行高真空檢測檢漏,直至達(dá)到真空,極限真空、保真空、恢復(fù)真空,如極限真空和保真空正常,而恢復(fù)真空和真空不正常則可能主泵有問題。今天給大家列舉一些磁控濺射鍍膜機(jī)使用過程中常見的故障和解決方法,希望能幫助大家!一、當(dāng)正...

  • 超聲波風(fēng)速計的概述和優(yōu)勢特點 2022-06-07

    一、超聲波風(fēng)速計概述超聲波風(fēng)速儀最早于1950年代被開發(fā)出來它的原理是測量超聲波脈沖在兩個探頭之間傳播的時間來計算空氣移動的速度,也就是風(fēng)速。當(dāng)空氣移動時,超聲波在兩個探頭之間的時間會變長或變短。超聲波在空氣里就像水里的魚,水的流動方向,順流而下或逆流而上,會影響魚行進(jìn)的速度。二、超聲波風(fēng)速計特點1.沒有旋轉(zhuǎn)或移動的部件,易于安裝,結(jié)構(gòu)堅固,幾乎不需要維護(hù)。2.采樣頻率高,測量數(shù)據(jù)準(zhǔn)確,可以測量3D風(fēng)速數(shù)據(jù),完整地描述測量點的風(fēng)速湍流。3.測風(fēng)范圍廣。

  • 有關(guān)快速化學(xué)淬滅系統(tǒng)的原理及應(yīng)用 2022-06-01

    快速化學(xué)淬滅系統(tǒng)是多路混合停流裝置,淬滅裝置,快速混合溫度突變等裝置系統(tǒng),產(chǎn)品設(shè)計解決您快速動力學(xué)應(yīng)用中的需要,自動濃度依賴性實驗研究以及兩路混合實驗研究,標(biāo)準(zhǔn)停流配置適用所有光學(xué)模式:吸收,熒光,圓二色,熒光各向異性光譜等測定。比色池多樣性,可擴(kuò)展溫度適用范圍,可更換SFM附件,應(yīng)用于:化學(xué)淬滅,光學(xué)淬滅以及光學(xué)延時,冷凍淬滅,X-射線散射停流,中子色散停流,EPR停流,低溫停流,自動滴定,停流電導(dǎo),快速混合溫度突變系統(tǒng),微重力實驗研究等。因為有的化學(xué)反應(yīng)某一反應(yīng)物是過量的...

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