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負(fù)性光刻膠（SU-8）-光刻機(jī)用

簡(jiǎn)要描述：負(fù)性光刻膠（SU-8）-光刻機(jī)用
SNR負(fù)性光刻膠，針對(duì)微機(jī)械加工微電子應(yīng)用，高對(duì)比度，環(huán)氧樹脂類負(fù)性光刻膠。
具有垂直側(cè)壁的高縱橫比成像
近紫外（350-400nm）處理
單旋涂膜厚度為1.5至200µm
高度耐化學(xué)性和耐溫度性
與已建立的SU-8光刻工藝兼容

產(chǎn)品型號(hào)：SNR
廠商性質(zhì)：代理商
更新時(shí)間：2025-02-27
訪問量：2269

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光刻機(jī)，勻膠機(jī)

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品牌	其他品牌	供貨周期	一個(gè)月
主要用途	光刻工藝用的化學(xué)品	應(yīng)用領(lǐng)域	電子/電池

負(fù)性光刻膠（SU-8）-光刻機(jī)用

SNR負(fù)性光刻膠，針對(duì)微機(jī)械加工微電子應(yīng)用，高對(duì)比度，環(huán)氧樹脂類負(fù)性光刻膠。

具有垂直側(cè)壁的高縱橫比成像

近紫外（350-400nm）處理

單旋涂膜厚度為1.5至200µm

高度耐化學(xué)性和耐溫度性

與已建立的SU-8光刻工藝兼容

微機(jī)械加工微電子應(yīng)用

高對(duì)比度環(huán)氧樹脂負(fù)片光刻膠

具有垂直側(cè)壁的高縱橫比成像

近紫外（350, 400nm）處理

單層旋涂膜厚度為0.5至200µm

高度耐化學(xué)性和耐溫度性

兼容既定的SU8光刻工藝

負(fù)性光刻膠（SU-8）-光刻機(jī)用

ENPR Series	Viscosity (cP)	Thickness (um)	Exposure Energy (mJ/?)
C5	53	4 - 8	100 - 120
C7	165	6 - 13	110 - 125
C10	455	9 - 21	120 - 140
C15	1500	13 - 46	125 - 180
C25	5490	18 - 70	135 - 200
C50	15900	40 - 155	165 - 295
C75	27200	60 - 240	190 - 360

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