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磁控濺射源(1英寸/2英寸/3英寸)-真空組件

簡要描述:磁控濺射源(1英寸/2英寸/3英寸)-真空組件
磁控濺射源/靶槍(1英寸/2英寸/3英寸)我們提供多種口徑的圓形平面靶槍,尺寸1“, 2“ and 3“. 以及矩形靶槍
安裝法蘭口徑:NW63CF,NW100CF
真空腔體內長度范圍:150-400mm
真空腔體內端面直徑:60-96
靶材直徑: 1“, 2“ and 3“
靶材大厚

  • 產(chǎn)品型號:
  • 廠商性質:代理商
  • 更新時間:2025-02-27
  • 訪  問  量:3187

詳細介紹

品牌其他品牌應用領域電子/電池,電氣,綜合

磁控濺射源(1英寸/2英寸/3英寸)-真空組件

技術參數(shù):
我們提供多種口徑的圓形平面靶槍,尺寸1", 2" and 3". 以及矩形靶槍
安裝法蘭口徑:NW63CF,NW100CF
真空腔體內長度范圍:150-400mm
真空腔體內端面直徑:60-96
靶材直徑: 1", 2" and 3"
靶材最大厚度:4-6mm
冷卻:水冷
磁控濺射源/靶槍(1英寸/2英寸/3英寸)


特點:
100%超高真空(UHV)應用
放射性沉積模式
在線Z軸驅動及傾斜
水冷時不會存在水汽
平衡靶和非平衡靶設計
高強度磁體應用于磁性材料

磁控濺射源(1英寸/2英寸/3英寸)-真空組件

應用領域:
PVD沉積
金屬涂層
納米結構薄膜
多層鍍層
反應濺射
射頻濺射,直流濺射,脈沖直流濺射
硬質涂層


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